隨著人工智慧與高速運算需求迅速攀升，矽光子（Silicon Photonics）技術正成為資料中心與光通訊領域的重要關鍵。為了因應這一波產業升級，我司長期深耕於高速雷射磊晶結構的研發設計，並於近日再次取得美國發明專利，展現我司在光電元件領域的技術領先地位與創新實力。

■本次專利亮點：突破性的邊發射雷射（EEL）結構設計
本專利針對邊發射雷射（Edge Emitting Laser, EEL)提出創新磊晶堆疊結構設計，核心特點如下：
◎導入隧道接面技術（Tunnel Junction）

◎降低串聯電阻，提高效率

◎光場優化與波長控制能力提升

■搶攻AI世代高速運算核心應用
本次專利技術將有望應用於：

◎AI加速晶片的光連接（optical interconnects）

◎資料中心內部高速光模組

◎未來高頻寬低延遲的矽光子整合晶片